射頻離子源系統(tǒng)的應(yīng)用

射頻離子源系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域正在不斷拓展和創(chuàng)新。目前，改變零件表面尺寸和物理力學(xué)性能的離子束加工包括蝕刻加工和離子涂層加工。

射頻離子源蝕刻的定義和具體應(yīng)用領(lǐng)域是什么?離子蝕刻是一種去除工件材料的工藝。這是一個影響過程。離子束刻蝕過程中一個重要的物理參數(shù)是刻蝕速率，它表示每個入射離子產(chǎn)生的原子數(shù)。蝕刻速率取決于多種因素，如離子束能量、離子束尺寸、離子束在表面的入射角、被加工材料的原子結(jié)構(gòu)和晶體取向。離子束能量和離子束電流越高，刻蝕速率越高。一方面，蝕刻可用于加工陀螺儀的氣槽，分辨率高，精度和重復(fù)性好，也可用于加工球面鏡。另一方面，離子束刻蝕可用于刻蝕高精度圖形，如集成電氣器件、磁泡器件、光電器件和光學(xué)集成器件等。離子束蝕刻系統(tǒng)的優(yōu)點是:分辨率高，可獲得小于10nm的特征尺寸掩模;直接離子注入。

射頻離子源系統(tǒng)離子涂層技術(shù)的定義和應(yīng)用是什么?讓我們一起分析一下。

1. 離子鍍是真空蒸發(fā)和濺射中的一種新型鍍膜技術(shù)，氣相沉積領(lǐng)域引入了多種氣體放電方法，整個氣相沉積過程是在等離子體中進(jìn)行的，鍍膜工件是負(fù)偏壓的，工件無時無刻不受到高能離子的轟擊。它具有膜與襯底間附著力好、柔韌性好、結(jié)構(gòu)參數(shù)可控、膜顆粒總能量高、易反應(yīng)沉積等優(yōu)點。

2. 離子鍍膜工藝的具體應(yīng)用離子鍍膜可以涂覆范圍很廣的材料，金屬和非金屬表面可以鍍金或鍍成非金屬薄膜，各種合金、化合物或一些合成材料、半導(dǎo)體材料、高熔點材料也可以鍍覆。離子束涂覆技術(shù)可用于涂覆潤滑膜、耐熱膜、裝飾膜、電膜等。離子束涂層可替代鍍鉻的硬膜，減少鍍鉻的污染，延長使用壽命。根據(jù)物理效果和目的的不同，離子束加工可分為四類。即離子蝕刻、離子濺射沉積和利用離子撞擊和濺射效應(yīng)的離子鍍，以及利用離子注入效應(yīng)的離子注入。

什么是射頻離子源系統(tǒng)的離子刻蝕?離子蝕刻是一種原子尺度的切割工藝，又稱離子銑削，是用能量為0.5~5keV的氬離子以一定的角度轟擊工件，使工件表面的原子一個個剝離。

什么是射頻離子源系統(tǒng)中的離子濺射沉積?離子濺射沉積也是將某種材料用能量為0.5~5keV的氬離子斜向轟擊靶材料。離子靶原子被敲出并垂直沉積在靠近靶的工件上。工件表面涂有薄膜，因此濺射沉積是一種涂覆過程。

射頻離子源系統(tǒng)的離子鍍方法是什么?離子鍍又稱離子濺射輔助沉積，也是采用能量為0.5~5keV的氬離子。不同的是離子束同時轟擊靶材和工件表面，以增強膜材料與工件基體之間的結(jié)合力，或者可以在高溫下蒸發(fā)靶材，同時進(jìn)行離子沖擊涂層。